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本套高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)具有計(jì)算機(jī)可編程控制多層鍍膜系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)程序自動(dòng)控制的多層薄膜的蒸鍍。真空腔體為Ф500×600（mm）不銹鋼半圓柱形,極限真空度≤5.0×10-7Pa。蒸發(fā)室U型前快開門密封方式，外表采用噴丸和電解拋光工藝處理，真空室內(nèi)部全表面有不銹鋼防污板。

　　該設(shè)備為方型室蒸鍍?cè)O(shè)備，可滿足用戶實(shí)現(xiàn)單質(zhì)膜，多層膜及鍍制復(fù)合膜的工藝要求。蒸鍍室是以電阻加熱的方式實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)鍍膜功能的，它是在高真空條件下，通過(guò)加熱材料的方法，在需鍍襯底上蒸鍍各種金屬單層或多層膜，適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬、氧化物、介質(zhì)、掃描電鏡制樣等，也可用作教學(xué)及生產(chǎn)線前期工藝試驗(yàn)等，整套設(shè)備操作簡(jiǎn)便，綜合功能多，擴(kuò)展空間大，適合及滿足院校的教學(xué)與科研

該設(shè)備為方型室蒸鍍?cè)O(shè)備，可滿足用戶實(shí)現(xiàn)單質(zhì)膜，多層膜及鍍制復(fù)合膜的工藝要求。蒸鍍室是以電阻加熱的方式實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)鍍膜功能的，它是在高真空條件下，通過(guò)加熱材料的方法，在需鍍襯底上蒸鍍各種金屬單層或多層膜，適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬、氧化物、介質(zhì)、掃描電鏡制樣等，也可用作教學(xué)及生產(chǎn)線前期工藝試驗(yàn)等，整套設(shè)備操作簡(jiǎn)便，綜合功能多，擴(kuò)展空間大，適合及滿足院校的教學(xué)與科研