高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)

　　1、本套高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)具有計(jì)算機(jī)可編程控制多層鍍膜系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)程序自動控制的多層薄膜的蒸鍍。

　　2、真空腔體為Ф500×600（mm）不銹鋼半圓柱形,極限真空度≤5.0×10-7Pa。蒸發(fā)室U型前快開門密封方式，外表采用噴丸和電解拋光工藝處理，真空室內(nèi)部全表面有不銹鋼防污板。

　　3、前面裝有DN100擋板觀察窗,一個(gè)四芯引線，CF35預(yù)抽法蘭，二個(gè)進(jìn)氣閥法蘭等。下面裝有1套6源1500℃蒸發(fā)源系統(tǒng)，并配有蒸發(fā)源口的旋轉(zhuǎn)擋板。

　　4、蒸發(fā)源與基片距離調(diào)節(jié)范圍150～450mm，鍍膜速率和時(shí)間可控。

　　5、 可放置23片Ф50.8mm樣片，也可更換6片Ф100樣片或3片Ф150樣片，每種配一套厚度0.5mm材質(zhì)304的樣片。每種樣品都具有防止掉落的快速鎖緊，并且方便快速取出。樣品臺可旋轉(zhuǎn)，自轉(zhuǎn)速度0～50轉(zhuǎn)/分，膜厚均勻性≤±3%。

　　6、基片加熱溫度范圍室溫～最高1700℃，由熱電偶閉環(huán)反饋控制, 導(dǎo)電PID智能控溫，控溫精度±0.5℃。

　　7、蒸發(fā)鍍膜工藝室極限真空度≤5.0×10-7Pa(經(jīng)烘烤除氣后，24小時(shí)內(nèi))；真空室漏率7×10-11Pa.L/S； 蒸發(fā)鍍膜工作真空1.0×10-2Pa -1.0×10-4Pa，由大氣狀態(tài)下抽到在30分鐘內(nèi)；工作真空狀態(tài)下充入氮?dú)?，下次再抽?.0×10-4Pa需小于10分鐘；系統(tǒng)停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空室真空度≤5Pa。

　　8、高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)現(xiàn)貨價(jià)：90萬元人民幣。