該設備是一臺真空柔性襯底薄膜沉積設備,主要在柔性薄膜基底上沉積光電薄膜。工作條件:供電:~380V三相五線制供電系統(tǒng),設備總功率約50kVA,占地面積6000×3000㎜,冷卻水循環(huán)量5M3/H,工作環(huán)境溫度10℃~40℃,冷卻水溫度15℃~25℃,極限真空:7×10-5Pa,最大有效襯底寬度220㎜。全不銹鋼結構。