一、設(shè)備簡(jiǎn)介：

　　該設(shè)備為方型室蒸鍍?cè)O(shè)備，可滿(mǎn)足用戶(hù)實(shí)現(xiàn)單質(zhì)膜，多層膜及鍍制復(fù)合膜的工藝要求。

　　蒸鍍室是以電阻加熱的方式實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)鍍膜功能的，它是在高真空條件下，通過(guò)加熱材料的方法，在需鍍襯底上蒸鍍各種金屬單層或多層膜，適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬、氧化物、介質(zhì)、掃描電鏡制樣等，也可用作教學(xué)及生產(chǎn)線(xiàn)前期工藝試驗(yàn)等，整套設(shè)備操作簡(jiǎn)便，綜合功能多，擴(kuò)展空間大，適合及滿(mǎn)足院校的教學(xué)與科研

　　本設(shè)備由于采用了超高真空密封技術(shù)，極限真空高，恢復(fù)工作真空時(shí)間短；整機(jī)主要采用金屬密封技術(shù)及超高真空閥門(mén)，前后開(kāi)門(mén)采用氟膠圈，真空管路用不銹鋼金屬波紋管路，避免了傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)帶來(lái)的安裝維護(hù)困難的問(wèn)題。

　　二、設(shè)備的主要配置及性能：

　　蒸鍍室配置：

　　1、真空獲取系統(tǒng)：

　　1200L/S分子泵、KF40高真空截止閥、KF40波紋管管路、KF40不銹鋼三通、KF40真空充氣閥、高低真空計(jì)、CF200超高真空氣動(dòng)閘板閥一臺(tái)、CF35超高真空氣動(dòng)角閥一支以及9L/S機(jī)械泵機(jī)組一套；

　　2、鍍膜樣品載臺(tái)：

　　升降、旋轉(zhuǎn)（含樣品擋板）一套，升降、旋轉(zhuǎn)功能可通過(guò)PLC控制系統(tǒng)進(jìn)行控制；

　　3、真空主機(jī)部分：

　　主體采用304不銹鋼，焊接后，對(duì)真空腔體進(jìn)行表面處理，為亞光電解處理，前后門(mén)一套；

　　4、鍍膜檢測(cè)系統(tǒng)：

　　配備2支水冷晶振探頭，一臺(tái)自動(dòng)控制膜厚儀；

　　5、蒸發(fā)源：

　　多套金屬蒸發(fā)源（含控制電源）

　　6、其他組成部分：

　　主體承載機(jī)架一套、CF100觀察窗組件一套、烘烤照明系統(tǒng)一套以及其他真空部件

　　蒸鍍室性能：

　　高真空多功能蒸發(fā)設(shè)備主體均為優(yōu)質(zhì)不銹鋼制造，耐腐蝕、抗污染、漏率小;設(shè)備電控部分采用了先進(jìn)的檢測(cè)和控制系統(tǒng)，配置了較先進(jìn)的PLC觸摸編程控制，為用戶(hù)做多層膜提供了良好的設(shè)備功能保證，且保證了設(shè)備各功能的穩(wěn)定和方便操作。性能穩(wěn)定、可靠；設(shè)備布局合理，提高了利用率和穩(wěn)定性，減少了對(duì)環(huán)境的干擾；控制面板的設(shè)計(jì)考慮了美觀和適用的結(jié)合，使面板操作指示明確，觀察舒適、操作方便。

　　三、主要技術(shù)參數(shù):

　　1、極限真空度: ≤5×10-5