MJCK-500高真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)性能指標(biāo)

　　1.高真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)：廠商沈陽(yáng)美濟(jì)真空科技有限公司。（品牌：美濟(jì)真空）型號(hào)MJCK-500，產(chǎn)品實(shí)用可靠，自動(dòng)化程度高，整套設(shè)備操作簡(jiǎn)便，綜合功能多，擴(kuò)展空間大，熱處理部分也在原來(lái)的設(shè)備基礎(chǔ)上全面改進(jìn)升級(jí)了，完全滿足國(guó)內(nèi)高等院校和科研院所的需要。

　　2.設(shè)備技術(shù)要求：

　　系統(tǒng)主要由四靶濺射室、進(jìn)樣室、2英寸非磁濺射靶和2英寸磁性靶，靶頭傾角可調(diào)并可換（電動(dòng)升降），并配有可電腦編程控制電動(dòng)擋板，直流電源、射頻電源、樣品庫(kù)、清洗靶、樣品加熱冷卻轉(zhuǎn)臺(tái)、電動(dòng)磁力送樣機(jī)構(gòu)。

　　2.1、 濺射室

　　2.1.1、為約Ф500×450（mm）不銹鋼圓柱形腔體。極限真空可達(dá)5×10-5Pa,濺射室上蓋密封方式，外表采用噴丸和電解拋光工藝處理，上蓋電動(dòng)提升，真空室內(nèi)設(shè)有不銹鋼防污板。

　　2.1.2、下面裝有4個(gè)磁控靶(RF兼容，其中2個(gè)磁性靶，靶擋板可電腦編程控制開關(guān)狀態(tài)和時(shí)間)；磁控靶有水冷系統(tǒng)冷卻，使永磁鐵處于常溫狀態(tài);所鍍膜層控精度可達(dá)0.01nm 。

　　2.1.3、真空室可內(nèi)烘烤150～200℃。

　　2.2、樣品臺(tái)

　　2.2.1、可放置1片Ф50mm樣片拖。樣片架可公轉(zhuǎn)、自轉(zhuǎn)和翻轉(zhuǎn)三維度旋轉(zhuǎn)，自轉(zhuǎn)速度0～50轉(zhuǎn)/分，靶基距雙向調(diào)節(jié)30-180mm。

　　2.2.2、基片加熱最高溫度1700℃，控溫精度±0.5○C。由鉑銠偶閉環(huán)反饋控制；程序控溫，升溫速率可控范圍0.1-5℃/s，降溫速率可控范圍（5-50℃/s），恒溫時(shí)間可控（幾分鐘到幾十小時(shí)）?；稍谕唤禍?zé)崽幚?。原位熱處理不?huì)互相干擾。具有電動(dòng)控制基片擋板。

　　2.3、進(jìn)樣室

　　2.3.1、為約Ф450×450（mm）不銹鋼水平圓柱形腔體，外表采用噴丸和電解拋光工藝處理；

　　2.3.2、進(jìn)樣室下方配有離子清洗。

　　2.4、樣品庫(kù)

　　2.4.1、樣品庫(kù)在進(jìn)樣室的上方安裝，庫(kù)內(nèi)可放6塊Ф50樣品；

　　2.4.2、樣品由進(jìn)樣室前面帶有玻璃觀察窗的門中放到樣品庫(kù)中，由進(jìn)樣室樣品送樣機(jī)構(gòu)將其傳遞到濺射室中。當(dāng)鍍膜完成后，再由磁力送樣機(jī)構(gòu)將其從濺射室中取下，自動(dòng)送回到樣品庫(kù)中。

　　2.5、MJCK-500高真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)現(xiàn)貨價(jià)：90萬(wàn)元人民幣。